専門家によると、湖北深紫は深紫外LED高性能チップを発表しました。

7月3日、深圳で開催された「2020専門家Point?深紫外LEDフォーラム及び新製品発表會及び『UV LED産業発展白書』の成果発表」で、湖北深紫は高性能チップのテーマ講演を共有しました。梁仁瓅博士によると、現在の深紫外LEDはエピタキシャル、チップ、パッケージに挑戦があるが、エピタキシャルに比べて最も難しく、主な成長プロセスと成長デバイスである。したがって、高エピタキシャル品質材料、高光抽出効率構造、高信頼性の紫外LEDデバイスをどのように調製するかは、業界の発展を制限するボトルネックとなる。

それでは、エピタキシャルチップの技術において、湖北の深紫にはどのような獨自の技術的なハイライトがありますか？

1、高品質窒化アルミニウム基板製造プロセス

深紫エピタクシーの成長に対して、図形化サファイア基板プロセスを採用しています。このプロセスは平面サファイア基板を自分で設計して作成したもので、準備プロセスはまずPECVDを用いて200 nmのSiO2マスクを堆積し、続いて順次リソグラフィー、ICPエッチングと濕式エッチングを行います。

以上の基板に基づいて，低溫AlN核形成，パルス原子層堆積，高溫AlN連続成長の三段階法を用いてAlN材料のMOCVDエピタキシャル成長を行った。得られたAlN薄膜の表面は滑らかで亀裂がなく，高性能デバイスに良い基礎を作った。

2、電子減速器を持つ深紫LED材料の成長プロセス

AlGaN材料に基づく電子移動度は正孔移動度より大きく，電子放出をもたらす。電子と正孔の移動能力を均衡させるために、湖北深紫はAlGaN拡張層の前に超格子電子減速器構造を追加し、電子のオーバーフローを抑制することを目的としている。

湖北深紫は均質Al成分の構造を設計しており、一つはAl成分の減少した構造であり、一つはAl成分の上昇した構造であり、三つの構造が素子性能に及ぼす影響を研究している。

研究結果は，4つの試料の結晶品質が同じで，素子性能に及ぼす結晶品質の影響を排除する量子井戸と超格子電子減速器の構造界面が急峻であることを示した。

3、高効率の光取り深紫外LEDデバイスの設計とプロセス—ステルス切斷プロセス

湖北深紫に使用される基板プロセスは等価粗化領域において、多レーザステルス技術を用いて十分に粗い基板側壁を形成し、TMモード紫外光のサファイア側壁での全反射を緩和し、光抽出効率を向上させる。この切斷プロセスにおいて、100 mAの下で、粗化四刀は一刀に比べ、光出力は19.62%向上したという。

來源：2020年専門家POINT深紫外フォーラムと新品発表會-湖北深紫スピーチPPT

また、マイクロレンズアレイの設計及びプロセスにおいて、蛾眼ナノ薄膜で覆われ、深い紫外LEDを26.7%の光出力電力に高めることができます。

技術の光點を分かち合う以外に、湖北の深紫はまた1項の深紫LEDチップを発表しました。

梁仁瓅博士は大會で湖北深紫の12220 ml深紫外LEDチップを展示しました。これらの技術を総合して実現した主流規格のチップです。このチップは3.7-6を実現できます。2 mW@40 mAを選択します9-15 mW@100 mAの272 nmピーク波長の深い紫外出力でWPEは2.41%に達した。

來源：2020年専門家POINT深紫外フォーラムと新品発表會-湖北深紫スピーチPPT

梁仁瓅博士は講演の中で、次は湖北深紫はもっと短い波長と大きなパワー（高光効）の方向に力を出し続け、よりコストパフォーマンスの高い深紫LEDチップを提供すると明らかにしました。